第19回分子科学研究所技術研究会

研究会の主旨

 本研究会は、大学、高等専門学校及び大学共同利用機関等の技術者が、日常業務で携わっている 実験装置の開発、維持管理の話題から改善、改良の話題に及ぶ広範な技術的研究支援活動について 議論する場を提供します。内容としては、特定の技術分野にテーマを絞り、登壇者と参加者の充実 した討論とともに、技術者の交流及び技術向上を図ることを目的としています。

開催日時

平成 30 年 2 月 8 日(木)、9 日(金)

開催場所

自然科学研究機構 岡崎コンファレンスセンター

参加登録

別サイトで参加登録を行なっています。
https://registration.ims.ac.jp/tech2017/

討論テーマ

第1:FPGA(Field Programmable Gate Array)

「HDL と FPGA 開発の理想と現実」

 大規模なロジック回路を集積できる FPGA が電子機器に普及して久しいですが、大学や研究所で
は必ずしもそうとは言えません。体系的・長期的な取り組みが難しい、 HDL (Hardware Description
Language) 教科書の記述を組み合わせてもバグが出る、デバイスの挙動が見えなくてバグの原因が
掴めない、などなど様々な問題が山積しています。
 本研究会では、前年度の技術討論会に引き続き、教育現場における FPGA 教育の課題、業務で遭
遇した「文法は正しいが思うように動作しない」トラブル事例、ならびに現場で出された
FAQ(Frequently Asked Questions)や RAQ(Rarely Asked Questions)を挙げ、参加者で提案や議論
を行い、実際の回路として PLD(Programmable Logic Device)を円滑に動かすためのノウハウの
蓄積を図ります。

第2:微細加工技術(リソグラフィ)

「ゾーンプレートの製作を考える」

 微細加工技術の一つにリソグラフィがあります。リソグラフィは、集積回路の微細化、高集積化
を牽引してきた技術ですが、マイクロ・ナノレベルのパターン構造を形成できる点から、微細な構
造を有する流路や光学素子の製作にも利用されています。
 本研究会では、高度な加工技術を要するナノレベルのゾーンプレートに焦点を当て、製作におけ
る課題について意見交換を行うことで、ナノ加工に関する技術情報の共有と微細加工技術の向上を
目指します。

第3:工作技術

「次世代へ継ぐ基盤技術」

 溶接、ロウ付け、熱処理、真空リークテストなど、これらの基盤技術は装置製作では不可欠な技
術ですが、装置を自作することが少なくなったことや、アウトソーシングなどにより必要とされる
場面が少なくなってきました。また基盤技術に習熟した世代が少なくなり、次世代に伝え継ぐこと
が難しくなってきています。これらの技術は、ものづくりにとって必要な技術か?大学や研究機関
における重要な装置開発技術とは?タウンミーティングにより若手・ベテランすべての立場から意
見交換を行い、今後の大学研究機関の工作室のあるべき姿を考えます。

プログラム

2月8日(木)

12:00-13:00 受付
13:00-13:10 開会式
テーマ1:FPGA「HDLとFPGA開発の理想と現実」
基礎セミナー
13:10-13:30 「HDLの変遷-ロジック回路開発のこれまでとこれから」(分子科学研究所 豊田朋範)
13:30-14:00 「未定」(Xilinx [予定])
14:00-14:05 休憩
講演1(座長:分子科学研究所 豊田朋範)
14:05-14:35 「HDLを書かないFPGA設計」(東京大学物性科学研究所 伊藤功)
14:35-15:05 「FPGAでの非同期信号の扱い方とVivadoによるサポート」(筑波大学 小野雅晃)
15:05-15:25 休憩
講演2(座長:筑波大学 小野雅晃)
15:25-15:55 「Vivadoにおけるインスタンシエーションのコツ」(東京大学 八幡和志)
15:55-16:25 「Vivadoにおける高速ディレイゲートシステム開発の諸問題」(分子科学研究所 豊田朋範)
16:25-16:45 休憩
16:45-17:35 テーマディスカッション(FPGA)

2月9日(金)

テーマ2:フォトリソグラフィー「微細加工技術~ゾーンプレートの製作を考える~」
9:00-9:05 はじめに(テーマ2についての説明)
基礎セミナー
9:05-9:20 「リソグラフィ技術の紹介」(北海道大学 笠晴也)
講演1
9:20-9:40 「軟X線領域用ゾーンプレート製作への期待」(分子科学研究所 大東琢治)
9:40-10:00 「硬X線用フレネルゾーンプレートの利用と求められる性能」(SPring-8 竹内晃久)
10:00-10:10 休憩
講演2
10:10-10:30 「リフトオフによるゾーンプレートの製作」(分子科学研究所 高田紀子)
10:30-10:50 「新規位相差コントラスト電顕法のための電子線フレネルゾーンプレートのFIB加工」
(生理学研究所 富田雅人)
10:50-11:10 「エッチングによるゾーンプレート製作の可能性-そのメリットとデメリット-」
(東京工業大学 松谷晃宏)
11:10-11:20 休憩
11:20-12:10 テーマディスカッション(フォトリソグラフィー)
12:10-13:10 昼休憩
テーマ3:「次世代へ継ぐ基盤技術」
13:10-14:10 パネルディスカッション
(座長:東京大学生産技術研究所 谷田貝悦男)
※パネリスト
岡田則夫(JAXA先端工作技術グループ/国立天文台)
大渕喜之(国立天文台 先端技術センター)
小林和宏(名古屋大学 全学技術センター)
武田洋一(岩手大学 高度試作加工センター)
涌井勇輔(東京大学 生産技術研究所)
14:10-15:40 フリーディスカッション
(座長:国立天文台 鈴井光一)

※1. テーマ1は講演時間30分で講演と講演についての討論時間を含みます。
※2. テーマ2は講演時間20分で講演と質疑応答を含みます。各講演についての討論はテーマディスカッションでお願いします。
※3. 併設イベントとして、FPGA関連展示会を8日(木)の14:00-18:00で行う予定です。